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| 半導体製造のホトリソ工程においてシリコンウエーハ、ガラスなどの基板に対して、高精度に製作されたマスクガラスのパターンをミクロレベルの精度で位置合わせとパターン焼付けを行う装置です。
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 | マルチミラーランプハウス採用による均一性の高い照度分布 |
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| 各種自動機構部により操作性が向上 |
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| デジタルマイクロメーター表示によるZ軸制御（ソフトコンタクト可） |
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| 二視野顕微鏡採用による、スピーディーで正確なアライメント |
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| 試料はφ4インチ?厚みは最大2mm、マスクは5インチ角まで対応
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| 水銀灯500W光源
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| 装置寸法：7000W×800D×650H(mm)
重量180kg | | |
| 専用架台：1000W×800D×650H(mm)
重量110kg | | |
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| 設置場所： バイオナノテクノロジーセンター（片柳研究所棟6階） |
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